化学镀镍合金以其优良的工艺性能，物理化学和力学性能广泛的应用于电子产品机壳、框架等零件的电磁屏蔽上，提高电子产品的电磁兼容性能。因此，化学镀镍合金的电镀工艺具有巨大的社会和经济价值。

如果对我们感兴趣，请和我们联系或在线咨询。

     化学镀镍以它优良的镀层性能，如硬度高，耐磨性和耐蚀性都很优异，越来越为生产厂家所接受。以中磷化学镀层为例，其镀层性能如下：

      含磷量[ω(P)]6%～9%显微结构非晶态Ni-P合金，非磁性熔点860～880℃硬度镀态为450～550HV(45～48HRC) 热处理后为950～1050HV结合力钢或铝上结合强度为400MPa以上，大大高于电镀镍、铬内应力钢上内应力低于7MPa电阻率约为75μΩ·cm耐蚀性6～8μm可通过质量分数为5%的NaCl溶液24h9级连续盐雾试验

     化学镀镍是指在施镀过程中不需要外加电流，主要依靠基体表面的自催化作用，通过可操控的氧化还原反应将镍离子还原并沉积在基体上的反应。当pH＞6时，倘若溶液中不存在与镍离子络合的络合剂，镍离子不可避免的要发生水解，生成氢氧化镍沉淀，为了使镀液稳定，在化学镀镍溶液中通常选用有机酸及其盐作为络合剂［1］。

     化学镀中络合剂主要有三种作用:1)在酸性镀液中防止亚磷酸镍沉淀形成;2)作为缓冲剂，阻止pH过快降低;3)降低游离镍离子的浓度，提高镀液的稳定性［2］。化学镀镍常用的络合剂有柠檬酸、乳酸、丁二酸、氨基乙酸、苹果酸、丙酸、甘氨酸、氨基醋酸、酒石酸、硼酸和水杨酸等［3］。本文通过络合剂的单因素试验，获得了厚度大致相同的Ni-P合金镀层，并运用正交试验探讨了复合络合剂对化学镀镍沉积速率和耐蚀性的影响。